第2期报纸(2002年2月10日):那氏778基因诱导剂在日光温室内黄瓜上的初步实验分析

2021-05-24

    一、(1)户主:大川渡村二社刘宗社 (2)栽培设施与管理:属高效节能日光温室,一般栽培方法管理。
    二、(1)那氏778基因诱导剂实验时间:2000年11月6日,棚内温度为16℃。 (2)实验对象:嫁接移栽后黄瓜,株高6至8片叶,接穗为山农5号。 (3)实验中株数:400株,在同一棚内其余约600株为对照区。 (4)实验处理方式:那氏778诱导剂1:400倍液喷叶,1:400倍液每株50ml-60ml浇根。处理一小时后用清水喷叶浇根一次。
    三、测试黄瓜不同叶位片在高温条件下的净光合速率、暗呼吸速率和叶面温度。测试方法采用开放气路,每次测定3个单株,以初绽新生叶为第一叶,依次向下数确定叶位,每一叶测定重复3次。
    四、测试时间:2000年12月21日,上午11:30左右,叶面温度为36℃。
    五、结果分析:从测定的黄瓜不同叶位叶片的净光合速率和暗呼吸速率表明,处理黄瓜各叶位叶片的净光合速率与暗呼吸速率均比对照高。2、4、6、8、10叶位叶片光合速率分别是对照的3.63、 4.18、 4.79、4.73、 4.31倍,处理黄瓜叶片的光合速率均比对照提高了3.32倍左右,且暗呼吸速率均表现有不断升高的趋势,处理后多数植株在每节上有两根幼瓜同时生长,膨大为商品瓜,而对照黄瓜留有两幼瓜生长时,就有一根弱小瓜化瓜。从结瓜与根系表明处理黄瓜主根粗长,根须比对照根须多一倍以上,光合强度的提高,根系吸收的养份和叶片积累的光合产物对黄瓜的营养生长与生殖生长基本上构成平衡。  

    实验单位:兰州榆中绿保农业科技开发中心
    实验负责人:高国飞 张安德
    参加试验人员:刘少玲 金丽娟

分享